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PATENTE Procedimiento asistido de adsorción de dióxido de carbono Inventores: José Manuel Valverde Millán Antonio Castellanos Mata Titular: Universidad de Sevilla RESUMEN La invención tiene por objeto un procedimiento de adsorción de CO2 que consiste en hacer pasar un flujo de gas con una concentración determinada de CO2 a través de un lecho de polvo dispuesto sobre una placa porosa en una cámara de fluidización, comprendiendo el lecho de polvo al menos un polvo seleccionado entre polvos ultrafinos que comprenden partículas primarias con un tamaño típico entre 1 y 100 nm; y simultáneamente someter el lecho de polvo a un tratamiento de agitación en combinación con un campo eléctrico para reducir el efecto de la cohesión entre dichas partículas y desestabilizar la formación de canales y burbujas Procedimiento asistido de adsorción de dióxido de carbono APLICACIONES - Ingeniería Química Procesos de filtración de gases Estimular la adsorción de CO2 mediante la fluidización asistida de nanopartículas de óxidos metálicos. VENTAJA COMPETITIVA El aumento de la concentración de gases efecto invernadero y el incremento del calentamiento global del planeta es creciente e irreversible según los expertos. El CO2 es el gas más importante de efecto invernadero, que está creciente en la atmósfera debido al uso de combustibles fósiles. Así, el desarrollo de nuevas tecnologías orientadas a la reducción de estas emisiones, es una actividad altamente prioritaria. Por lo cual, cualquier nueva aportación que pueda suponer una optimización de los procesos de eliminación de emisiones de gases de efecto invernadero puede suponer un relevante avance tecnológico “El CO2 es el gas más importante de efecto invernadero, que está creciente en la atmósfera debido al uso de combustibles fósiles. Así, el desarrollo de nuevas tecnologías orientadas a la reducción de estas emisiones, es una actividad altamente prioritaria” CONTACTO: Universidad de Sevilla Pabellón de Brasil. Paseo de las Delicias, s/n 41012 SEVILLA Tel.: +34 954 488114 Email: [email protected] Web: http://www.otri.us.es Página 2