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PATENTE
Procedimiento asistido de adsorción de dióxido de
carbono
Inventores:
José Manuel Valverde Millán
Antonio Castellanos Mata
Titular:
Universidad de Sevilla
RESUMEN
La invención tiene por objeto un procedimiento de adsorción de CO2 que
consiste en hacer pasar un flujo de gas con una concentración determinada de
CO2 a través de un lecho de polvo dispuesto sobre una placa porosa en una
cámara de fluidización, comprendiendo el lecho de polvo al menos un polvo
seleccionado entre polvos ultrafinos que comprenden partículas primarias con un
tamaño típico entre 1 y 100 nm; y simultáneamente someter el lecho de polvo a
un tratamiento de agitación en combinación con un campo eléctrico para reducir
el efecto de la cohesión entre dichas partículas y desestabilizar la formación de
canales y burbujas
Procedimiento asistido de adsorción de dióxido de carbono
APLICACIONES
-
Ingeniería Química
Procesos de filtración de gases
Estimular la adsorción de CO2 mediante la fluidización asistida de
nanopartículas de óxidos metálicos.
VENTAJA COMPETITIVA
El aumento de la concentración de gases efecto invernadero y el incremento del
calentamiento global del planeta es creciente e irreversible según los expertos. El
CO2 es el gas más importante de efecto invernadero, que está creciente en la
atmósfera debido al uso de combustibles fósiles. Así, el desarrollo de nuevas
tecnologías orientadas a la reducción de estas emisiones, es una actividad altamente
prioritaria. Por lo cual, cualquier nueva aportación que pueda suponer una
optimización de los procesos de eliminación de emisiones de gases de efecto
invernadero puede suponer un relevante avance tecnológico
“El CO2 es el gas
más importante de
efecto invernadero,
que está creciente en
la atmósfera debido
al uso de
combustibles fósiles.
Así, el desarrollo de
nuevas tecnologías
orientadas a la
reducción de estas
emisiones, es una
actividad altamente
prioritaria”
CONTACTO:
Universidad de Sevilla
Pabellón de Brasil. Paseo de las Delicias,
s/n 41012 SEVILLA
Tel.: +34 954 488114
Email: [email protected]
Web: http://www.otri.us.es
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