Láser de fluoruro de kriptón

Un láser de fluoruro de kriptón (o láser KrF) es un tipo especial de láser de excimero, que a veces es llamado láser de excímeros o láser exciplex. Posee una longitud de onda de 248 nanómetros, y es un láser ultravioleta profundo que se utiliza comúnmente en la producción de circuitos integrados de semiconductores, micromecanizado industrial, y en la investigación científica.El término excimer es la abreviatura de ""dímero excitado"", mientras que exciplex es la abreviatura de ""complejo excitado"". Un láser excimer suele utilizar una mezcla de gases nobles (argón, kriptón o xenón) y un gas halógeno (flúor o cloro), que en condiciones adecuadas de estimulación eléctrica y de presión elevada, emite radiación coherente estimulada (luz láser) en el rango ultravioleta.El láser excimer KrF (y el de ArF) son ampliamente utilizados en las máquinas de litografía de circuitos integrados de muy alta resolución (VLSI), una de las tecnologías críticas requeridas para la fabricación de chips microelectrónicos. La litografía de láser excimer, ha permitido que el tamaño de los transistor se reduzca desde 0,5 micrómetros en 1990 a menos de 45 nanómetros en 2010.